美國 Swagelok 原子層沉積 (ALD) 閥赫爾納供應

美國 Swagelok 原子層沉積 (ALD) 閥赫爾納供應，由赫爾納德國總部直接采購，近30年進口工業(yè)品經(jīng)驗，原裝產(chǎn)品，支持選型，為您提供一對一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，快速報價，價格優(yōu)，設有8大辦事處提供相關(guān)售后服務。

公司簡介：

世偉洛克是工業(yè)流體系統(tǒng)制造和支持領(lǐng)域的全球領(lǐng)者。自 1947 年推出革命性的無泄漏式 世偉洛克®卡套管接頭以來，我們始終秉承制造高品質(zhì)產(chǎn)品的激情和滿足客戶 需求的堅定信念，幫助各行各業(yè)在苛刻的應用條件下安全、高效、可靠地輸送液體和氣體。。

主要產(chǎn)品：

管接頭、閥門、軟管和軟性卡套管、調(diào)壓閥、快速接頭、定制化方案等。

產(chǎn)品型號：

ALD3、ALD6、ALD7、ALD20

美國Swagelok 原子層沉積 (ALD) 閥產(chǎn)品介紹：

世偉洛克超高純原子層沉積 (ALD) 閥具有實現(xiàn)半導體制造應用中進樣所需的超高循環(huán)壽命、快速動作、流量、熱浸沒和高潔凈度。我們的高性能 ALD 閥是世偉洛克長期以來在半導體制造業(yè)中顯示出迅速響應的技術(shù)領(lǐng)導力的一個重要例子。ALD 閥技術(shù)問世以來，世偉洛克與半導體行業(yè)的客戶密切合作，了解他們的需求，然后打造出 ALD 閥，提供必要的、高水平的精度、一致性、清潔度和高循環(huán)壽命，以跟上市場的快速創(chuàng)新步伐。

美國Swagelok 原子層沉積 (ALD) 閥主要特點：

ALD3 和 ALD6 隔膜閥在原子層沉積應用中具備強大的性能，可實現(xiàn)高速執(zhí)行下的超高循環(huán)壽命。

ALD7 超高純隔膜閥提供了在半導體制造應用中盡可能地提高芯片成品率所需的精度和一致性。

使用 ALD20 超高純閥門推進原子層沉積技術(shù)，其流速是其他 ALD 閥門的 2-3 倍。

美國Swagelok 原子層沉積 (ALD) 閥產(chǎn)品優(yōu)勢：

? 快速動作下的超高循環(huán)壽命

? Cv 范圍從 0.27 至 1.7

? 耐熱能力高達 392°F (200°C)

? 電子或光學執(zhí)行機構(gòu)位置傳感選購件

? 憑借 316L VIM-VAR 不銹鋼閥體而適合超高純應用場合

? 模塊化表面安裝、卡套管對焊和 VCR® 端接

美國Swagelok 原子層沉積 (ALD) 閥主要應用：

半導體行業(yè)、光纖設備制造、流體系統(tǒng)等。